1、修毛是指金属加工件中除去边棱的锐角毛刺，用砂纸、砂轮等工具去除。毛边是指在针刻（DRYPOint）和雕版（ENGRAVING）中，由针或刻刀在金属板表面刻线形成的粗糙的边。在直接刻线中，毛边（有时也这样称呼为隆脊）或许被保留下来以创造表明技术特征的柔和、模糊的线。
2、NOGA去毛刺刀具作业效率极高，经过简单培训即可操作，适用于多种材质的加工，包括不锈钢、铝合金、橡胶和塑料等。在实际应用中，它被广泛用于精密模具制造、机械制造、火车车辆、汽车零部件和发动机配件等领域。
3、爱拓玛超声波清洗机结构简单，运行稳定可靠，经济耐用。上海去毛刺超声波清洗机 清洗高精密零配件选择哪种超声波清洗机好？苏州爱拓玛机械科技有限公司为你推荐众所周知，精密件采用的都是比较高精密的零部件，一定要选择比较先进超声波清洗机。
4、自动化集成：力控打磨机器人可以轻松地与现有的生产线进行集成和自动化控制，实现生产过程的全面自动化和智能化管理。案例展示 不锈钢焊缝打磨：通过机器人力控打磨技术，可以实现对不锈钢焊缝的精细打磨，去除焊缝余高和毛刺，提高产品的美观度和质量。
5、实现工件强化。摩托车配件制造：摩托车配件制造中，抛丸机用于去除配件表面的毛刺和污垢，提高配件的表面质量和耐用性。钢板制造：在钢板制造过程中，抛丸机用于处理新出炉的钢板毛刺，提高钢板的表面质量和后续加工性能。此外，在阀门制造等领域，抛丸机也用于打磨和抛光铸件，满足产品质量要求。
CMP，又称化学机械平坦化，是利用与被加工基片相匹配的抛光液在基片表层发生快速化学作用，形成一层相对于基体硬度较软、强度较低、结合力较弱的表面软化层。随后，通过抛光垫与被加工基片之间的相对运动，利用抛光液中的磨料和抛光垫对被加工基片表面进行机械去除，从而获得高品质的加工表面。
CMP抛光垫：主要作用是储存和运输抛光液、去除磨屑和维持稳定的抛光环境等。CMP抛光液：是研磨材料和化学添加剂的混合物，可使晶圆表面产生一层氧化膜，再由抛光液中的磨粒去除，达到抛光的目的。CMP钻石碟：是CMP工艺中必不可少的耗材，用于维持抛光垫表面一定的粗糙状态，通常与CMP抛光垫配套使用。
CMP技术定义为化学机械抛光，是一种高端升级版的普通抛光技术，应用于单晶硅片制造过程和前半制程，能有效使硅片表面变得平坦，相比传统机械抛光，化学机械抛光具有成本低、方法简单等优势，成为当前半导体材料表面平整的首选技术。
CMP工艺，即化学机械抛光工艺，是半导体制造中的一项关键步骤。以下是关于CMP工艺的详细解CMP工艺的应用背景 CMP工艺主要用于系统及LSI（大规模集成电路）与先进CMOS（互补金属氧化物半导体）数字电路发展中多层布线化的要求。
1、镜光：一般用漂白棉布（要求比较好的布）或者风碌（轮）+镜面 光小白蜡或者小蓝蜡。布轮要求要稍微松一点，纹路基本就没有了。这样才是真正的镜面光。
2、第三道工序是细抛光，仍然使用麻轮，但配以紫蜡或蓝蜡。所需材料包括：吉祥麻轮一个、妍儿牌精抛蓝蜡一条。第四道工序是镜面抛光，这里可以选择风轮或扣布轮配合绿蜡（青蜡）。所需材料为：风轮或扣布轮一个、妍儿牌高盯或吉祥牌绿蜡一条。
3、毡轮：进行最后的微抛光工作，用于提升不锈钢表面的光洁度。在使用其他抛光工具之后，毡轮能够进一步细化镜面。选择合适的抛光轮对于实现不锈钢镜面的理想抛光效果至关重要，不同的轮子适用于不同的抛光阶段和需求。
4、不锈钢管材的抛光过程通常包括预处理、粗抛和精抛。在预处理阶段，可以使用手抛机搭配布轮和青蜡进行抛光，以达到镜光效果。如果管材表面氧化层或沙眼不多，可以直接使用白蜡（灰白色）进行粗抛。白蜡由硬脂酸、脂肪酸、氧化铝粉、单甘脂、石蜡和羊毛脂等成分组成，主要适用于任何材质的精细抛光。
细抛光轮，用于产品的二级抛光，主要适用于对产品外表抛光亮度要求不高，或者作为精度抛光的前道工序。此环节所使用的抛光轮一般较初抛光的抛光轮硬度上要降低了许多，例如麻轮、麻绳轮、麻布轮、带包浆的风轮、尼龙轮等等。
抛光使用的轮子主要有以下几种：抛光轮、羊毛轮和海绵轮。抛光轮主要用于金属表面的抛光，其表面覆盖有磨料，能够去除表面的微小划痕和瑕疵。羊毛轮则更适合用于汽车漆面的抛光，因为它能产生较高的转速，并具有较高的弹性和柔韧性，可以很好地适应凹凸不平的表面。
玻璃抛光：羊毛轮是玻璃制品抛光的必用工具之一，能够去除玻璃表面的划痕和瑕疵，提升其整体美观度。综上所述，羊毛轮作为一种专业的抛磨耗材，在多个领域都有广泛的应用。其独特的材质和构造使其具有出色的抛光效果和耐用性。
抛光轮，它是一种压合式平面轮，它由若干抛光轮片压合而成，每一个抛光轮片的外表面均均匀地涂有一层抛光油层。在抛光过程中不需要另外单独地加油。它结构简单，使用方便。
半导体CMP耗材供应商列表如下：抛光垫供应商：多家专业供应商提供半导体CMP工艺中所需的抛光垫，这些抛光垫具有高精度和耐磨性，以满足CMP工艺的要求。抛光液供应商：提供针对不同材料和工艺的抛光液，包括化学机械抛光液等，这些抛光液具有优异的抛光效果和稳定性。
安集科技：国内CMP抛光液绝对龙头，全球份额约5%，28nm以下全制程覆盖，核心客户包括中芯国际、长江存储，产品扩展至湿电子化学品。 鼎龙股份：抛光垫国产替代主力军，同时建成万吨级抛光液产线，2024年抛光液/清洗液收入同比激增179%至15亿元，已覆盖存储及逻辑芯片产线。
鼎龙股份成功研发并产业化了CMP（化学机械抛光）四大耗材：抛光垫、清洗液、修整盘和抛光液。这些耗材在半导体制造过程中起着至关重要的作用，用于实现晶圆表面的平整化。
江丰电子：国内高纯金属靶材领域领导者，中芯国际是其重要客户之一。江化微：为中芯国际提供相关化学材料。南大光电：全球四大MO源制造商之一，有产品通过中芯国际获得商业订单。华特气体：国内领先的半导体特种气体供应商，中芯国际是其众多知名客户之一。
